Mikrostruktura powłok formowanych metodą sputteringu jonowego
| dc.contributor.author | Rajchel, Bogusław | |
| dc.contributor.author | Kwiatkowska, Jadwiga | |
| dc.contributor.author | Biel-Gołaska, M. | |
| dc.contributor.author | Świątkowska, Żaneta | |
| dc.contributor.author | Mitura-Nowak, Marzena | |
| dc.contributor.author | Rajchel, W. | |
| dc.contributor.author | Strączek, Piotr | |
| dc.contributor.author | Rakowski, W. | |
| dc.date.accessioned | 2018-01-12T10:46:56Z | |
| dc.date.available | 2018-01-12T10:46:56Z | |
| dc.date.issued | 2006 | |
| dc.description.abstract | Wiązki jonów są wydajnym narzędziem do formowania złożonych powłok charakteryzujących się doskonałą adhezją do podłoża. W szczególności metody wykorzystujące wiązki jonów pozwalają uzyskać powłoki na bazie związków węgla, krzemu oraz azotu cechujące się atrakcyjnymi własnościami użytkowymi. W pracy zastosowano metodę Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) do formowania powłok węglowych typu ta-C oraz powłok typu SiCX i SiXNY. Do określenia wiązań chemicznych a więc pośrednio mikrostruktury powłok zastosowano konfokalną mikrospektroskopię Ramanowską. Do określenia rozkładów głębokościowych poszczególnych pierwiastków w powłoce oraz w podłożu zastosowano metody spektroskopii jądrowej Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) oraz Nuclear Reaction Analysis (NRA). Określono własności mechaniczne uformowanych układów. Uformowane powłoki charakteryzują się złożoną, zmieniającą się z głębokością mikrostrukturą powstałą w wyniku dynamicznych procesów zachodzących w silnie zjonizowanym ośrodku. | pl_PL.UTF-8 |
| dc.identifier.uri | http://rifj.ifj.edu.pl/handle/item/175 | |
| dc.language.iso | pol | pl_PL.UTF-8 |
| dc.publisher | Institute of Nuclear Physics Polish Academy of Sciences | pl_PL.UTF-8 |
| dc.relation.ispartofseries | Raport IFJ PAN;1989/AP | |
| dc.title | Mikrostruktura powłok formowanych metodą sputteringu jonowego | pl_PL.UTF-8 |
| dc.type | Report | pl_PL.UTF-8 |
