Mikrostruktura powłok formowanych metodą sputteringu jonowego
Loading...
DOI
Files
Date
2006
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Institute of Nuclear Physics Polish Academy of Sciences
Abstract
Wiązki jonów są wydajnym narzędziem do formowania złożonych powłok charakteryzujących się doskonałą adhezją do podłoża. W szczególności metody wykorzystujące wiązki jonów pozwalają uzyskać powłoki na bazie związków węgla, krzemu oraz azotu cechujące się atrakcyjnymi własnościami użytkowymi. W pracy zastosowano metodę Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) do formowania powłok węglowych typu ta-C oraz powłok typu SiCX i SiXNY. Do określenia wiązań chemicznych a więc pośrednio mikrostruktury powłok zastosowano konfokalną mikrospektroskopię Ramanowską. Do określenia rozkładów głębokościowych poszczególnych pierwiastków w powłoce oraz w podłożu zastosowano metody spektroskopii jądrowej Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) oraz Nuclear Reaction Analysis (NRA). Określono własności mechaniczne uformowanych układów. Uformowane powłoki charakteryzują się złożoną, zmieniającą się z głębokością mikrostrukturą powstałą w wyniku dynamicznych procesów zachodzących w silnie zjonizowanym ośrodku.