Mikrostruktura powłok formowanych metodą sputteringu jonowego

Abstract

Wiązki jonów są wydajnym narzędziem do formowania złożonych powłok charakteryzujących się doskonałą adhezją do podłoża. W szczególności metody wykorzystujące wiązki jonów pozwalają uzyskać powłoki na bazie związków węgla, krzemu oraz azotu cechujące się atrakcyjnymi własnościami użytkowymi. W pracy zastosowano metodę Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) do formowania powłok węglowych typu ta-C oraz powłok typu SiCX i SiXNY. Do określenia wiązań chemicznych a więc pośrednio mikrostruktury powłok zastosowano konfokalną mikrospektroskopię Ramanowską. Do określenia rozkładów głębokościowych poszczególnych pierwiastków w powłoce oraz w podłożu zastosowano metody spektroskopii jądrowej Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) oraz Nuclear Reaction Analysis (NRA). Określono własności mechaniczne uformowanych układów. Uformowane powłoki charakteryzują się złożoną, zmieniającą się z głębokością mikrostrukturą powstałą w wyniku dynamicznych procesów zachodzących w silnie zjonizowanym ośrodku.