dc.contributor.author |
Rajchel, Bogusław |
|
dc.contributor.author |
Kwiatkowska, Jadwiga |
|
dc.contributor.author |
Biel-Gołaska, M. |
|
dc.contributor.author |
Świątkowska, Żaneta |
|
dc.contributor.author |
Mitura-Nowak, Marzena |
|
dc.contributor.author |
Rajchel, W. |
|
dc.contributor.author |
Strączek, Piotr |
|
dc.contributor.author |
Rakowski, W. |
|
dc.date.accessioned |
2018-01-12T10:46:56Z |
|
dc.date.available |
2018-01-12T10:46:56Z |
|
dc.date.issued |
2006 |
|
dc.identifier.uri |
http://rifj.ifj.edu.pl/handle/item/175 |
|
dc.description.abstract |
Wiązki jonów są wydajnym narzędziem do formowania złożonych powłok charakteryzujących się doskonałą adhezją do podłoża. W szczególności metody wykorzystujące wiązki jonów pozwalają uzyskać powłoki na bazie związków węgla, krzemu oraz azotu cechujące się atrakcyjnymi własnościami użytkowymi. W pracy zastosowano metodę Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) do formowania powłok węglowych typu ta-C oraz powłok typu SiCX i SiXNY. Do określenia wiązań chemicznych a więc pośrednio mikrostruktury powłok zastosowano konfokalną mikrospektroskopię Ramanowską. Do określenia rozkładów głębokościowych poszczególnych pierwiastków w powłoce oraz w podłożu zastosowano metody spektroskopii jądrowej Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) oraz Nuclear Reaction Analysis (NRA). Określono własności mechaniczne uformowanych układów. Uformowane powłoki charakteryzują się złożoną, zmieniającą się z głębokością mikrostrukturą powstałą w wyniku dynamicznych procesów zachodzących w silnie zjonizowanym ośrodku. |
pl_PL.UTF-8 |
dc.language.iso |
pol |
pl_PL.UTF-8 |
dc.publisher |
Institute of Nuclear Physics Polish Academy of Sciences |
pl_PL.UTF-8 |
dc.relation.ispartofseries |
Raport IFJ PAN;1989/AP |
|
dc.title |
Mikrostruktura powłok formowanych metodą sputteringu jonowego |
pl_PL.UTF-8 |
dc.type |
Report |
pl_PL.UTF-8 |