Abstract:
Diamentopodobne powłoki weglowe sa obecnie intensywnie badane jako materiały o wielorakich potencjalnych zastosowaniach w elektronice, optyce i trybologii. W raporcie
przedstawiamy pierwsze warstwy amorficznego wegla uformowane metoda PLD w IFJ
PAN. Powłoki deponowane były na podłozach krzemowych w komorze prózniowej pod
cisnieniem 5x10¡5 mbar przez ablacje laserowa tarczy grafitowej. W eksperymencie
uzyto lasera Nd:YAG o długosci fali 1064 nm i gestosci energii w zakresie 10-50 J/cm2.
Mikrostruktura uzyskanych powłok została przebadana przy uzyciu spektroskopii Ramana.
